X熒光分析儀的在物質成分分析上的應用

X熒光分析儀的在物質成分分析上的應用

XRF應用主要取決于儀器技術和理論方法的發展。X射線熒光分析儀器有三種主要類型：實驗室用的、采用各種不同激發源的熒光X射線光譜儀和非色散的熒光分析儀；小型便攜式的X射線熒光分析儀；工業上的專門儀器如多光路的X射線量子儀等。

這些儀器和方法分別在工業上如冶金、地質、化工、機械、石油等，農業上，醫藥衛生和科研如物理、化學、生物、滴血、天文學等獲得了廣泛應用。

分析范圍包含了元素周期表中絕大部分元素，超鈾元素也有人利用此法進行測定，分析靈敏度隨儀器條件及分析對象和待測元素而異。

新型儀器檢出限一般達10-5~10-6克/克，某些可以達到10-7~10-9克/克。至于常量分析，由于現代儀器的高度穩定性，X射線熒光分析法的準確度已可與經典的化學分析法相媲美。

即便對不久前才開展起來的輕元素分析，也是如此此外由于現代儀器的高度自動化，此法還特別適合于工業上作爐前分析或工藝流程的控制分析，比較先進的工業國家已經在工礦企業里普遍使用，成為一種很有地位的常規分析手段。

以上所述，只是X射線熒光分析法在元素分析上的部分應用。當然，這些應用是非常重要的。也可以說，是它在二、三十年中能夠得到飛速發展的關鍵。

除此之外，它可有效地用于測定薄膜的厚度和組成，例如在冶金工業上測定鍍層或金屬薄片的厚度，在涂料工藝上測定涂層的厚度以及在其它工業部門中用于金屬腐蝕、感光材料、磁性錄音帶和光量子放大器等以測定其薄膜厚度和組成，它也可以用在動態的分析上，連續測定某一體系在它的物理化學作用過程中組成變化的情況。例如，由于相變產生的金屬間的擴散，固體從溶液中沉淀的速度，固體在固體中擴散和固體在液體中溶解的速度，溶液混合的速度以及表面腐蝕的速度等等。